应能微电子申请双向TVS管相关专利,导通调制埋层降低电阻提高浪涌承载能力
创始人
2026-05-08 11:37:09
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5月8日消息,国家知识产权局信息显示,江苏应能微电子股份有限公司申请一项名为“一种低动态电阻高浪涌能力的双向瞬态电压抑制器”的专利。申请公布号为CN121985590A,申请号为CN202610461489.5,申请公布日期为2026年5月5日,申请日期为2026年4月9日,发明人朱伟东、赵泊然,专利代理机构无锡市兴为专利代理事务所(特殊普通合伙),专利代理师屠志力,分类号H10D89/60、H10D62/10。

专利摘要显示,本发明提供一种低动态电阻高浪涌能力的双向瞬态电压抑制器,包括:重掺杂第一导电类型半导体衬底;设置于衬底上的第一外延层;设置于所述第一外延层上的导通调制埋层;设置于所述导通调制埋层上的第二外延层;设置于所述第二外延层上的重掺杂第一导电类型区;设置于重掺杂第一导电类型区正面的第一电极和设置于衬底背面的第二电极;所述导通调制埋层设置于双外延体区内部,并被配置为在瞬态大电流冲击条件下形成载流子高浓度电导调制区域,在所述第一外延层与第二外延层之间构成体区主导的导通路径,使导通电流由PN结局部区域集中导通转变为在体区范围内横向扩展并形成面状分布的整体导通模式,从而降低器件动态电阻并提高器件浪涌承载能力。

天眼查数据显示,江苏应能微电子股份有限公司成立日期2012年3月22日,法定代表人ZHU PHILLIP WEIDONG,所属行业为研究和试验发展,企业规模为小型,注册资本4286.5339万人民币,实缴资本2089.1564万人民币,注册地址为常州市天宁区创智路5号4号楼(8层、9层)。江苏应能微电子股份有限公司共对外投资了6家企业,参与招投标项目14次,财产线索方面有商标信息7条,专利信息115条,拥有行政许可11个。

江苏应能微电子股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种低动态电阻高浪涌能力的双向瞬态电压抑制器发明专利公布CN202610461489.52026-04-09CN121985590A2026-05-05朱伟东、赵泊然
2一种微型单体封装电子保护结构及其制造方法发明专利公布CN202610352324.42026-03-23CN121925156A2026-04-24朱伟东、赵泊然
3纵向SCR型瞬态过压保护器件发明专利实质审查的生效、公布CN202610313890.42026-03-16CN121888620A2026-04-17朱伟东、赵泊然
4一种基于深沟槽隔离的单芯片双向低电容TVS器件及其制造方法发明专利公布CN202610296786.92026-03-12CN121843143A2026-04-10朱伟东、赵泊然
5一种屏蔽栅沟槽功率MOSFET及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511876860.62025-12-12CN121728802A2026-03-24李振道、孙明光、朱伟东
6用于ESD防护的多电流通路双向SCR器件发明专利授权CN202511309274.32025-09-15CN120812966B2025-11-18朱伟东、赵泊然
7一种改善开关损耗的沟槽式MOSFET器件发明专利实质审查的生效、公布CN202510796831.22025-06-16CN120321986A2025-07-15李振道、孙明光、朱伟东
8一种沟槽式功率金氧半场效晶体管及其制备工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510774266.X2025-06-11CN120282541B2025-08-26李振道、孙明光、朱伟东
9用于防护雷击的压敏电阻夹层模组集成结构发明专利授权CN202510592406.12025-05-09CN120417465B2026-02-17朱伟东、赵泊然
10一种ESD加固的LDMOS器件及其制备方法发明专利授权、公布CN202411329890.02024-09-24CN118841450B2024-12-17孙明光、李振道、朱伟东
11一种自适应超结LDMOS结构发明专利授权、公布CN202411081577.X2024-08-08CN118782654B2025-04-08孙明光、李振道、朱伟东
12一种用于抗闩锁的高压ESD保护器件发明专利授权、公布CN202410982344.02024-07-22CN118522769B2024-10-01朱伟东、赵泊然
13用于ESD防护的高掺杂多晶硅器件与工艺发明专利授权、公布CN202410718845.82024-06-05CN118299408B2024-08-02朱伟东、赵泊然
14用于ESD防护的双模灵敏检测瞬态触发电路发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202410480761.52024-04-22CN118074085A2024-05-24朱伟东、赵泊然
15一种屏蔽闸沟槽式功率金属氧化物半导体制备方法及器件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410239174.72024-03-04CN117832093B2024-05-10李振道、孙明光、朱伟东
16一种自适应超结沟槽式MOSFET器件及其制备方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311401481.22023-10-26CN117133791B2024-01-26孙明光、李振道、朱伟东
17双齐纳阱SCR器件、制造工艺及其堆叠结构发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311282644.X2023-10-07CN117038720B2024-01-26朱伟东、赵泊然
18具有三重resurf结构的分离栅沟槽MOS器件及工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311083616.52023-08-28CN116799070B2023-11-17孙明光、李振道、朱伟东
19一种集成ESD保护器件的分离栅沟槽MOS器件及工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311076280.X2023-08-25CN116825850B2023-11-17孙明光、李振道、朱伟东
20开关电源导通时间控制电路、方法和开关电源发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310912685.62023-07-25CN116647098B2023-10-03李征、赵泊然、朱伟东
21一种超低电容双向SCR-TVS器件发明专利实质审查的生效、公布CN202310862496.22023-07-14CN116598309A2023-08-15朱伟东、赵泊然
22一种垂直型双向SCR低电容TVS器件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310862502.42023-07-14CN116581122B2023-09-12朱伟东、赵泊然
23具有闸源端夹止结构的沟槽式功率MOSFET器件及其制备方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310816523.22023-07-05CN116525663B2023-09-12李振道、孙明光、朱伟东、赵泊然
24一种三维超结LDMOS结构及其制作方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310793099.42023-06-30CN116525655A2023-08-01孙明光、李振道、朱伟东、赵泊然
25加强型屏蔽闸沟槽式功率金氧半场效晶体管实用新型授权CN202321650322.12023-06-27CN220106545U2023-11-28李振道、孙明光、朱伟东、赵泊然
26电机转子角度信息识别方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310670645.52023-06-08CN116404916A2023-07-07曹元、朱伟东、吴琦
27内置ESD保护二极管的SGT器件及其制作方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310594164.02023-05-25CN116314341B2023-08-08朱伟东、赵泊然、李振道、孙明光
28一种屏蔽闸沟槽式功率金属氧化物半导体制作方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310540946.62023-05-15CN116259544B2023-08-08李振道、孙明光、朱伟东、赵泊然
29开关变换器控制电路、控制方法及电源设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310524618.72023-05-11CN116247908B2023-07-28李征、赵泊然、朱伟东
30电源设备及用于电源芯片的工作模式配置电路发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310505858.22023-05-08CN116247933B2023-07-25李征、赵泊然、朱伟东
31一种基于Resurf效应的屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310385852.62023-04-12CN116110944A2023-05-12朱伟东、赵泊然、孙明光、李振道
32一种低寄生电容焊盘发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310385849.42023-04-12CN116110872A2023-05-12朱伟东、赵泊然
33一种栅控Resurf高压LDMOS结构发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310376829.02023-04-11CN116110955B2023-06-27朱伟东、赵泊然、孙明光、李振道
34一种分段式分离栅SGTMOSFET结构发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310381286.12023-04-11CN116093146B2024-02-20朱伟东、赵泊然、孙明光、李振道
35具有高维持电压的低电容双向SCR瞬态抑制器件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310371412.52023-04-10CN116093153B2023-07-21朱伟东、赵泊然
36一种电压钳位组合器件发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310343608.32023-04-03CN116093912A2023-05-09朱伟东、赵泊然
37碳化硅功率金属氧化物半导体场效应晶体管及其制备方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202211118851.72022-09-15CN115440822B2023-08-22李振道、孙明光
38碳化硅半导体场效晶体管的栅源极保护结构及制备方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202211081391.52022-09-06CN115172457B2024-05-03李振道、孙明光
39具有高维持电压的瞬态电压抑制保护器件及静电放电电路发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210098666.X2022-01-27CN114121944B2022-05-17朱伟东、赵泊然
40具有高触发电流的SCR器件及静电放电电路结构发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210098555.92022-01-27CN114121943B2022-05-17朱伟东、赵泊然
41降低正向导通电压和导通电阻的转向二极管结构实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202220184870.92022-01-24CN216648324U2022-05-31朱伟东、赵泊然、王晓荣
42一种自隔离非对称垂直型瞬态电压抑制保护器件发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111325282.92021-11-10CN113764406B2022-03-01朱伟东、赵泊然
43具有补偿阱可控硅结构的瞬态电压抑制保护器件及其制作方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111281199.62021-11-01CN113725213B2022-03-01朱伟东、赵泊然
44一种屏蔽闸沟槽式MOS管的斜氧制作方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111122643.X2021-09-24CN113571421B2021-12-24李振道、孙明光、朱伟东
45具有网格状阴阳极沟槽结构的瞬态电压抑制保护器件发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111047867.92021-09-08CN113488464B2021-12-07朱伟东、赵泊然
46沟槽原位掺杂多晶硅可控硅结构的瞬态电压抑制保护器件发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111047854.12021-09-08CN113497032B2022-01-25朱伟东、赵泊然
47降低正向导通电压和导通电阻的转向二极管结构和制造方法发明专利发明专利申请公布后的视为撤回、实质审查的生效、公布CN202110964535.02021-08-23CN113410311A2021-09-17朱伟东、赵泊然、王晓荣
48双向高压瞬态电压抑制器的结构及其制作方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202110964546.92021-08-23CN113421930A2021-09-21朱伟东、赵泊然、陈德朋
49具有开路失效功能的瞬态电压抑制二极管结构及电路结构实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121914071.42021-08-16CN215644511U2022-01-25朱伟东、赵泊然、朱九花
50集成逆导二极管的可控硅瞬态电压抑制保护器件结构发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202110919920.32021-08-11CN113380786B2021-11-16朱伟东、赵泊然

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