8月22日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“抛光垫修整方法、装置、设备、控制器及存储介质”的专利，授权公告号CN121104903B，授权公告日为2026年8月21日。申请公布号为CN121104903A，申请号为CN202511588496.3，申请公布日期为2026年8月21日，申请日期为2024年10月31日，发明人路新春、王春龙、徐海洋、赵德文，分类号B24B53/017、B24B51/00。

专利摘要显示，本发明涉及抛光垫修整方法、装置、设备、控制器及存储介质，该修整方法在初次修整周期内对抛光垫进行修整时采用初始修整配方，在后续修整周期内进行修整时采用经自学习调整方法调整的修整配方。本发明通过抛光垫修整方法对抛光垫实现可控修整，根据抛光垫的磨损状态调整修整参数，优化修整参数，延长抛光垫的使用寿命，降低抛光垫的更换频率和成本。

华海清科是国内领先的半导体CMP设备龙头企业，核心产品覆盖化学机械抛光设备，具备全产业链自主可控技术壁垒。公司成立于2013年4月10日，于2022年6月8日登陆上海证券交易所，注册与办公所在地均为天津市。

华海清科主营业务为从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，所属申万行业为电子-半导体-半导体设备，同时覆盖HBM概念、半导体设备、中芯国际概念三大概念板块。

2026年上半年，华海清科实现营业收入26.43亿元，在行业5家可比企业中排名第4，低于行业平均32.3亿元、行业中位数29.13亿元，同期行业第一名为中微公司（66.91亿元）、第二名为盛美上海（37.18亿元）；当期实现净利润5.63亿元，同样在5家可比企业中位列第4，低于行业平均11.44亿元、行业中位数9.89亿元，同期行业第一名为中微公司（27.97亿元）、第二名为拓荆科技（13.21亿元）。

华海清科股份有限公司近期专利情况如下：

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