8月25日消息，国家知识产权局信息显示，至微半导体（上海）有限公司、上海至纯洁净系统科技股份有限公司申请一项名为“一种晶圆背面清洗装置”的专利，授权公告号CN224653924U，授权公告日为2026年8月18日。申请号为CN202521733061.9，申请公布日期为2026年8月18日，申请日期为2025年8月14日，发明人邢淳辉、王奎、张辉，专利代理机构上海申新律师事务所，专利代理师吴轶淳，分类号H10P70/00、H10P72/00、H10P72/78、B08B3/02、B08B5/02、B08B13/00。

专利摘要显示，本实用新型提供一种晶圆背面清洗装置，伯努利吸盘用于非接触式承载晶圆；旋转驱动组件包括连接轴和旋转电机，连接轴分别连接伯努利吸盘和旋转电机，防护盖呈倒置的圆台形结构，防护盖与连接轴的侧面固定连接，防护盖的内侧壁构成旋转电机的环形保护腔；防护盖的上端面周向均匀分布多个多喷嘴组件，多喷嘴组件包括多个喷嘴，每个喷嘴的中轴线与晶圆背面的法线方向呈现倾斜夹角。本实用新型对晶圆背面边缘部分进行增强清洗，使得晶圆背面能够全面而有效地清洗晶圆背部，同时保护盖保护旋转电机不接触到清洗过程中的废液。

天眼查数据显示，至微半导体（上海）有限公司成立日期2017年10月26日，法定代表人蒋渊，所属行业为批发业，企业规模为大型，注册资本53144万人民币，实缴资本52780万人民币，注册地址为上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室。至微半导体（上海）有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息327条，拥有行政许可2个。

至微半导体（上海）有限公司近期专利情况如下：

至纯科技（维权）是国内高纯工艺领域龙头，主营半导体制程相关设备与服务，具备全产业链布局优势。公司成立于2000年11月13日，于2017年1月13日在上海证券交易所上市，注册及办公地点均位于上海市。

公司主营业务覆盖半导体制程设备、工艺支持设备的研发生产销售，以及衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务，所属申万行业为电子-半导体-半导体设备，同时布局半导体材料、碳基半导体、第三代半导体相关概念赛道。

2026年上半年，至纯科技实现营业收入10.2亿元，在8家同行业可比企业中排名第6，当期营收规模低于行业23.61亿元的平均数与21.15亿元的中位数，仅为行业头部中微公司（66.91亿元）的约15%、盛美上海（37.18亿元）的约27%；同期归母净利润为-2.89亿元，在8家同行业企业中位列末位，显著低于行业7.03亿元的平均净利润水平与3.83亿元的净利润中位数，与行业头部中微公司（27.97亿元）、拓荆科技（13.21亿元）的盈利规模存在较大差距。

上海至纯洁净系统科技股份有限公司近期专利情况如下：

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