1月10日消息，国家知识产权局信息显示，武汉昊诚锂电科技股份有限公司申请一项名为“一种改性NASICON型钠离子陶瓷电解质膜及其制备方法和应用”的专利。申请公布号为CN121306814A，申请号为CN202511462749.2，申请公布日期为2026年1月9日，申请日期为2025年10月14日，发明人段少强、盛琦、陈欢、阮红林、于昊诚，专利代理机构北京品源专利代理有限公司，专利代理师杨梦欢，分类号H01G11/84、H01G11/56、H01M10/054、H01M10/0562。

专利摘要显示，本发明提供一种改性NASICON型钠离子陶瓷电解质膜及其制备方法和应用。该制备方法包括以下步骤：将NZSP电解质、硼源、铋源、铜源、镧源和溶剂混合，得到混合浆料；将混合浆料涂覆在支撑基底上，形成陶瓷电解质生坯层；将层间结合增强型浆料涂覆在陶瓷电解质生坯层上，形成层间结合增强层，得到复合膜；对复合膜进行烧结处理，得到改性NASICON型钠离子陶瓷电解质膜。本发明借助四元协同掺杂体系，降低了后续烧结温度，提高了电解质膜的致密度、室温电导率和拉伸强度，将Zr、P等关键元素的挥发率控制在2wt%以下；利用层间结合增强层的设计，解决了层间结合和离子传导的问题，使层间剥离强度得到提升，界面阻抗显著降低。

天眼查数据显示，武汉昊诚锂电科技股份有限公司成立日期2004年4月15日，法定代表人于力，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为中型，注册资本3690万人民币，实缴资本2092.1618万人民币，注册地址为武汉市东西湖区田园街37号。武汉昊诚锂电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目29次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息171条，拥有行政许可32个。

武汉昊诚锂电科技股份有限公司近期专利情况如下：

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