盛美上海申请清洗电镀装置相关专利，利用溢流清洗液张力高效清洗夹具防飞溅
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2026-03-04 09:19:17
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3月4日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“清洗装置及电镀装置”的专利。申请公布号为CN121593146A，申请号为CN202411140793.7，申请公布日期为2026年3月3日，申请日期为2024年8月19日，发明人杨宏超、花宇、王坚、王晖，专利代理机构上海专利商标事务所有限公司，专利代理师骆希聪，分类号C25D5/48、C25D17/00、B08B3/04、B08B13/00。

专利摘要显示，本申请揭示了一种清洗装置及电镀装置。清洗装置被配置为清洗电镀夹具，包括槽体和管路组件；槽体包括内槽和外槽，内槽被配置为容纳清洗液，外槽设置于内槽的外围且被配置为收集自内槽溢流的清洗液；管路组件包括进液管路和出液管路，进液管路与内槽连接，被配置为向内槽供给清洗液，出液管路与外槽连接，被配置为排出外槽的清洗液；其中，电镀夹具具有第一待清洗部，第一待清洗部位于电镀夹具的底部，在清洗电镀夹具时，第一待清洗部位于内槽的槽口处，使得自内槽溢流的清洗液在表面张力作用下清洗第一待清洗部。通过内槽的清洗液溢流，利用清洗液表面张力，高效清洗电镀夹具，并且有效减少甚至避免清洗液飞溅和掉落至电镀装置的电镀腔中。

天眼查数据显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2005年5月17日，法定代表人HUI WANG，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本48016.4789万人民币，实缴资本37264.99万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目172次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息673条，拥有行政许可31个。

盛美半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696240.42025-11-19CN121149062A2025-12-16李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
2一种传感器校准装置及基板清洗机发明专利公布CN202511565215.22025-10-30CN121540106A2026-02-17陈远、赵运翔、何西登
3基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511376375.22025-09-25CN120878605A2025-10-31苏政、贾社娜、邓新平
4处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
5供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
6排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
7单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
8薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
9基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
10密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
11双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
12晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
13化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
14化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
15炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
16炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
17进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
18进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
19基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
20晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
21晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
22基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411383228.32024-09-29CN120033106A2025-05-23王晖、陶晓峰、黄天宇、韩阳、何西登、贾社娜、刘文博、张晓燕、胡海波、刘阳、吴杨
23用于方形基板的卡盘发明专利实质审查的生效、公布CN202411358048.X2024-09-26CN121192044A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
24支撑装置及基板退火设备发明专利授权CN202411351739.72024-09-25CN119920747B2025-11-14顾昱、王玉玺、杨宏超、王晖、王坚
25清洗装置及电镀装置发明专利公布CN202411140793.72024-08-19CN121593146A2026-03-03杨宏超、花宇、王坚、王晖
26管路拆装工装发明专利授权CN202411028309.12024-07-29CN119927842B2025-12-19杨超繁、贾社娜、张大海
27炉管设备发明专利公布CN202411027169.62024-07-29CN121442982A2026-01-30刘满成、刘权、孙旭海
28排液装置及基板处理设备发明专利公布CN202411028300.02024-07-29CN121432816A2026-01-30徐飞、吴均、隋涛、程成、王晖、李康植
29工艺管及炉管设备发明专利公布CN202411003481.12024-07-24CN121409008A2026-01-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
30基板热处理装置、热处理方法及涂覆显影设备发明专利公布CN202411002929.82024-07-24CN121419569A2026-01-27吴均、徐飞、那洪亮、王晖、李康植
31凸块电镀方法发明专利公布CN202410980780.42024-07-19CN121363025A2026-01-20王坚、王晖、贾照伟、陆陈华、代兰奎
32基板处理装置及基板处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410914104.72024-07-08CN121310877A2026-01-09王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华、贾照伟
33半导体冷却装置及半导体湿法刻蚀系统发明专利实质审查的生效、公布CN202410861050.22024-06-28CN121230359A2025-12-30练长均、高耀栋、宋成亮、刘鼎新、何西登、谢潮东、方毅敏
34一种组分分离装置、液体回收设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410867969.22024-06-28CN121222097A2025-12-30魏雄飞、石宁、王文军、张晓燕、邓新平
35电镀装置及电镀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410865294.82024-06-28CN121228330A2025-12-30吴勐、肖炎、杨宏超、贾照伟、王坚、王晖
36基板处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410856154.42024-06-27CN121228332A2025-12-30王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、刁建华、肖炎、吴勐
37刷子组件和半导体清洗设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410856136.62024-06-27CN121222715A2025-12-30孙建、朱国辉、王晖
38清洁系统及退火装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410854337.22024-06-27CN121222752A2025-12-30刘林波、余齐兴、金一诺、司生辉、宋永灏、王玉玺
39基板边缘刻蚀装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410854349.52024-06-27CN121237674A2025-12-30顾争荣、初振明、王东东、张晓燕、贾福金、向阳
40电镀装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410852582.X2024-06-27CN121228324A2025-12-30花宇、杨宏超、金一诺、王坚、王晖
41加热装置及基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410852574.52024-06-27CN121237673A2025-12-30王晖、贾社娜、苏政、路添竣、陶泽魏、季昆、邓新平
42基板定位装置及基板定位方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410843707.22024-06-26CN121215586A2025-12-26王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
43化学气相沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410844357.12024-06-26CN121204634A2025-12-26孙旭海、刘满成
44高温炉管的密封结构及密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410825152.92024-06-24CN119845044A2025-04-18吕策、张大海、王晖、沈周燮
45边缘刻蚀位置的控制方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410825019.32024-06-24CN121215519A2025-12-26庞博、肖登、初振明、张晓燕、王晖
46边缘清洗装置及边缘清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410816709.22024-06-21CN120237044A2025-07-01王晖、王坚、贾照伟、杨宏超、杨小亚
47用于方形基板的卡盘发明专利实质审查的生效、公布CN202410816350.92024-06-21CN121192043A2025-12-23王晖、王坚、吴均、杨宏超、杨小亚、刁建华
48用于电镀设备的检测方法及检测系统发明专利实质审查的生效、公布CN202410782849.22024-06-17CN121155061A2025-12-19石轶、左经之、任正博、王晖、金一诺
49晶圆处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410782703.82024-06-17CN121171920A2025-12-19戴明宇、贺斌、费红财、田连刚、朱志君、金京俊
50立式炉管发明专利实质审查的生效、公布CN202410783591.82024-06-17CN121161259A2025-12-19吕策、王晖、贾社娜、张大海

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