5月17日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“晶圆清洗装置及晶圆清洗方法”的专利，授权公告号CN121752004B，授权公告日为2026年5月15日。申请公布号为CN121752004A，申请号为CN202610230602.9，申请公布日期为2026年5月15日，申请日期为2026年2月27日，发明人王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤，专利代理机构北京知禾为律师事务所，专利代理师潘星言，分类号H10P72/00、B08B11/00、H10P70/00。

专利摘要显示，本申请提供了一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法，属于晶圆处理技术领域。该晶圆清洗装置包括箱体、承载盘、上挡圈及匀流结构，承载盘转动设置于箱体内，用于带动晶圆旋转，上挡圈升降设置于箱体内，以遮挡流体，匀流结构设置于上挡圈内侧下方，以均衡上挡圈内的径向压力，匀流结构上开设有引导流体进入其内部的镂空，以减少流体溢出。晶圆旋转过程中甩出流体，匀流结构可以对上挡圈内的径向压力进行均匀，形成匀流作用，避免流体在离心力作用下在上挡圈内周形成高压区、并自上挡圈下方溢出，匀流结构上的镂空可将上挡圈内的流体引导至匀流结构内部，进而避免流体自下挡圈下方溢出重新落在晶圆表面造成的二次污染，有效地保证了晶圆的处理质量。

华海清科成立于2013年4月10日，于2022年6月8日在上海证券交易所上市，注册地和办公地均为天津市。它是国内半导体CMP设备领先企业，核心产品化学机械抛光设备打破国际垄断。

华海清科主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，所属申万行业为电子-半导体-半导体设备，涉及半导体设备、先进封装等概念板块。

2025年，华海清科实现营业收入46.48亿元，在行业25家公司中排名第7，高于行业平均数41.44亿元和中位数14.26亿元，但低于第一名北方华创的393.53亿元和第二名中微公司的123.85亿元。主营业务中，半导体装备收入40.54亿元，占比87.22%；半导体服务收入5.94亿元，占比12.78%。净利润方面，当期达10.83亿元，行业排名第5，高于行业平均数6.09亿元和中位数1.77亿元，不过低于第一名北方华创的54.09亿元和第二名中微公司的20.64亿元。

华海清科股份有限公司近期专利情况如下：

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